量子点技术的应用会有更加光明的未来吗？

早在1980年，科学家便已发现了胶体半导体纳米晶体 — 即量子点 (QD)，其直径大小通常只有2 - 10纳米 (nm)。

具有鲜艳色彩的量子点，从紫色到深红色。图片版权归属：Alexei Antipov / Wikimedia Commons / CC-BY-SA-3.0 / GFDL

目前，这种材料已投入商业化生产，广泛应用于工业界包括平板显示器 (FPD) 行业。

—在FPD应用中，QD有望提高效能并降低功耗，增加亮度和色彩饱和度，延长显示器使用寿命，并降低当前FPD技术（包括有机发光二极管 (OLED) 技术）的成本。

人们普遍认为，QD设备的问世将会创造一种新的范式，这将终结液晶显示器 (LCD) 的市场垄断地位，并由开发出的新型低成本的薄膜晶体管 (TFT) 产品取而代之。QD对平板显示器 (FPD) 行业将产生深远影响，但一切真的会从此改变吗？

—Touch Display Research是一家独立的技术市场调研和咨询公司，该公司预测量子点显示器和照明组件的市场价值到2016年年底将≥20亿美元，到2025年将达到106亿美元。由于QD技术的一个关键优势是无需对现有的FPD制程作出重大改变，这有助于尽早将该技术投入实际应用。市场因此预期, QD LED或量子点发光二极管 (QLED) 显示器将成为继OLED显示器之后的下一代显示技术。

QLED的结构与OLED设备非常相似，它们均采用TFT矩阵有源处理每个像素。然而，使用模式化的QD取代标准发旋光性聚合物作为发射层，则具有显着的优势。这些优势包括纯色和完全可再现的色彩空间标准（如Adobe RGB），并能够带来比最先进的OLED还要高出30 – 40%的发光效率。QD还可能促成各种尺寸及形状的透明和超薄显示器的出现，这是现有技术无法做到的。

运动控制和位置编码器

封装QLED制造工艺涉及精密的运动控制, 其制造工艺将围绕两项技术展开：电流体动力喷墨打印 (e-jet) 技术和接触印刷技术。

E-jet打印技术是通过电场将墨滴从打印头喷嘴吸出，从而得到纳米级尺寸的墨滴。

然而接触印刷技术，即透过采用弹性压印模进行转印，制造分辨率高达每英寸2460个红-绿-蓝像素点 (PPI) 的显示器。QD检索和印刷过程取决于对印模施加的正交力和印模速度。印模与基板的接触面的调准和定位精度必须达到微米级，并且可重复覆盖精度必须<500 nm，这些都是该技术要求达到的特性。在这种情况下，考虑到接触印刷工艺在微米和纳米级组件制造领域的广泛应用前景，我们可以判断，用于运动控制的精密增量式光栅系统的未来销售状况比较乐观。现有的高效自动化转印系统大多数包含X、Y和Z轴线性平台，以及附加的移动/倾斜平台，它们共同控制印模组件的操作并确保重复精度。

领先的编码器解决方案

用于当前FPD制程的大型空气轴承平台，其典型运动误差小于10微米或10角秒。显然，需要对其性能做出改进，方可满足未来QD设备/纳米制造技术对运动控制精度的需求。

增量式光栅—例如雷尼绍紧凑型TONiC™系列光栅—是用于需要最高精度的伺服反馈的最佳解决方案。设计人员在寻找最佳的伺服控制性能解决方案时，要求编码器具备如下特点：带有精细细分、周期误差低、信号噪音（抖动）小、封装尺寸小，以及具有可选的模拟/数字输出功能。雷尼绍的TONiC光栅具备低至±0.51 nmRMS的低信号抖动，周期误差仅±30 nm，是同类产品中最低的。显然，先进的光栅对未来纳米制造技术的发展起着十分重要的作用。

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