工控网首页
>

新闻中心

>

行业动态

>

华虹NEC非外延0.35um BCD工艺进入量产

华虹NEC非外延0.35um BCD工艺进入量产

2009/8/24 9:19:08

上海华虹NEC电子有限公司(以下简称“华虹NEC”)近日宣布,公司非外延0.35um BCD工艺开始进入量产。

华虹NEC在2008年成功研发并量产了BCD350 (0.35 微米Bipolar CMOS DMOS)工艺。针对市场的不同需求,华虹NEC现又推出了非外延工艺的 0.35um BCD工艺,即PMU350工艺。PMU350在BCD350的基础上用deep Nwell替代了外延层,并简化了工艺流程,使该工艺更具竞争力。目前,PMU350工艺已经顺利通过了产品验证,进入量产。


华虹NEC PMU350工艺主要面向电源管理、显示驱动、汽车电子、工业控制等领域,该工艺的标准配置包括3.3V/5V的CMOS,12V/18V/30V/40V的LDMOS以及垂直的NPN和水平的PNP双极管。此工艺同时还提供高精度的电阻、高密度的电容及一次性可编程器等多种器件以方便客户选用,是LED驱动芯片、AC-DC转换器、DC-DC转换器、电池保护和充电保护芯片的最佳工艺选择之一。


华虹NEC总裁兼CEO邱慈云博士表示,PMU350工艺的成功量产,将为客户提供更多的工艺选择。为了持续不断地在该平台上推出下一代工艺来满足客户需求,华虹NEC已经在开发0.18微米 BCD技术平台,以期为客户的电源管理和SOC芯片提供更高端的技术,填补大陆代工市场的空白,成为BCD领域的领航者!

投诉建议

提交

查看更多评论
其他资讯

查看更多

未来十年, 化工企业应如何提高资源效率及减少运营中的碳足迹?

2023年制造业“开门红”,抢滩大湾区市场锁定DMP工博会

2023钢铁展洽会4月全新起航 将在日照触发更多商机

物联之星五大榜单揭榜!中国物联网Top100企业名单都有谁-IOTE 物联网展

新讯与肇庆移动圆满举办“党建和创”共建活动暨战略合作签约仪式