Mentor Graphics 与 TSMC 合作

　　Mentor Graphics Corp.(纳斯达克：MENT)今天宣布该公司与 TSMC(台湾积体电路制造股份有限公司，简称台积电)达成10纳米(nm) 的合作协议。为满足用于早期客户的测试芯片和IP(互联网协议)设计起动的10纳米鳍式场效晶体管 (Fin Field-Effect Transistor;FinFET) 的工艺要求，已经改进了物理设计、分析、验证和优化工具。基础架构包括 Olympus-SoC™ 数字设计系统， Analog FastSPICE (AFS™)平台(含AFS Mega)和 Calibre� 结束解决方案 ( Calibre� signoff solution )。

　　TSMC 设计基础架构营销部 (Design Infrastructure Marketing Division) 高级总监 Suk Lee 表示：“TSMC 和 Mentor正在进行广泛的工程工作，以便让双方的客户都能很好地利用先进的工艺技术。每一个节点都需要进行许多创新才能满足新的物理要求、提高客户设计赋能 (design enablement) 的精确度，与此同时性能更优、转回时间更短。”

　　Calibre 提供布线形状的全色彩能力，以帮助设计者指定符合10纳米规则要求的设计舱(cockpit)之外的色彩分配。针对定制集成电路布线图，改进后的Calibre RealTime 产品能进行互动的色彩检查，同时利用芯片厂认可的Calibre结束平台能使用所有定制布线工具进行设计。

　　针对10纳米 FinFET 设计，Mentor 和 TSMC 还改进了Calibre 填充解决方案。Calibre YieldEnhancer 中 SmartFill ECO 的功能支持“随时填充 (fill-as-you-go)”工作流，以确保IP和其它设计模块在设计过程中都能准确地呈现。当部分设计被修改时，SmartFill ECO功能能重新填充仅受影响的那部分，从而最小化转回时间 (turnaround time)。同样的，为在诸如TSMC10纳米这样的先进工艺节点上维持设计层级实现高效的布线后模拟， Calibre LVS 也被改进了。

　　两家公司还联手调整了 Mentor� Olympus-SoC 的布线和路由系统让它能满足 TSMC 的10纳米 FinFET 的要求。为了能用于10纳米 FinFET，数据库、布线、时钟树合成、提取、优化和路由引擎都做了重大的改进。

　　为了确保10纳米 FinFET 设备的准确的电路模拟，Mentor 与 TSMC 合作让 BSIM-CMG(伯克利共多栅极晶体管)和 TMI 模型在 Analog FastSPICE 平台(如AFS Mega)上能用于高速设备和电路层模拟。Calibre xACT™ 提取产品和 Calibre nmLVS™ 产品也支持新的10纳米 FinFET 模型。

　　因Mentor 和 TSMC在设计赋能方面的合作让客户取得成功的案例，将于9月30日在San Jose Convention Center(圣若泽会展中心)举行的TSMC的开放创新平台生态系统论坛(Open Innovation Platform Ecosystem Forum)会议上讲述。了解详情，请登录TSMC网站 www.tsmc.com。

　　Mentor Graphics简介

　　Mentor Graphics Corporation是电子硬件和软件设计解决方案的领导厂商，它向全球最成功的电子、半导体和系统公司提供产品、咨询服务和多次获奖的技术支持。该公司成立于1981年，上一会计年度报告的营业收入超过11.5亿美元。公司总部位于俄勒冈州威尔逊维尔 Boeckman 路 8005 S.W.(97070-7777)。网址： http://www.mentor.com/ 。

　　(注册商标 Mentor Graphics、Mentor 以及商标 Calibre 和 Olympus-SoC 和 AFS 均为Mentor Graphics Corporation所有。 其它公司名或产品名均为各自所有人的注册商标或商标。)