Mentor扩展版流程出炉,助力客户迎接更多设计挑战
“Mentor Graphics继续扩大Reference Flow系列产品的范围,从系统级到功能验证、布局布线、物理验证和硅片测试,再到提供新的解决方案,如低功耗、工艺多变性和硅片良品率分析,力争使其覆盖整个集成电路设计周期”,台积电设计架构市场部高级总监庄少特表示。
Reference Flow 10.0 Mentor流程新增添了许多功能,包括台积电Reference Flow中的首个Mentor实现解决方案,即 Olympus-SoC布局布线系统。对于高级的集成电路实现,Olympus-SoC系统的新功能成功解决了片上变异、28nm布线和低功耗设计问题:
对Olympus-SoC和Calibre平台内的DFM功能进一步扩展和集成,以解决28nm级或更高级别的工艺多变性问题
Olympus-SoC工具还支持层次化、递增和时序驱动金属填充流程,极大地提高了良品率,降低了失败率。
此外,Calibre nmDRC和Calibre nmLVS产品还支持Reference Flow 10.0封装(SIP)设计中的2D和3D系统sign-off物理验证。
Reference Flow 10.0加入了TestKompress?和YieldAssist产品的新特性,用于更好的缺陷检测、功耗感知测试和故障诊断:
Reference Flow 10.0还包括了Questa和0-In平台的高级功能验证特性,用于复杂IC设计的增强型验证。
“台积电Reference Flow 10.0中完整的Mentor设计到硅片流程允许我们一起帮助共同的客户解决在28nm所面临的最大挑战,包括低功耗设计和验证、大规模SoC实施、工艺多变性、经济型测试和良品率分析,”Mentor Graphics主席和CEO Walden C. Rhines说。“行业在向28nm工艺过渡时也提出了新的技术挑战,Mentor为此有自己独到的解决方案。我们与台积电密切合作,利用工具消除设计师和代工厂间的距离,并同时帮助客户在提高产品性能和可靠性的同时缩短产品的上市时间。”
提交
未来十年, 化工企业应如何提高资源效率及减少运营中的碳足迹?
2023年制造业“开门红”,抢滩大湾区市场锁定DMP工博会
2023钢铁展洽会4月全新起航 将在日照触发更多商机
物联之星五大榜单揭榜!中国物联网Top100企业名单都有谁-IOTE 物联网展
新讯与肇庆移动圆满举办“党建和创”共建活动暨战略合作签约仪式